【北试】商标详情
- 北试
- 72254020
- 已注册
- 普通商标
- 2023-06-15
0104 , 0115 0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-气体净化剂,
0104-生产染料用化学试剂,
0115-工 业用胶,
0115-工业用黏合剂
0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-气体净化剂;0104-生产染料用化学试剂;0115-工业用胶;0115-工业用黏合剂 - 1858
- 2023-10-06
- 1870
- 2024-01-07
- 2024-01-07-2034-01-06
- 北京化学试剂研究所有限责任公司
- 北京市北京市************
- 知域互联科技有限公司
2024-01-31 商标注册申请 | 注册证发文
2023-07-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-15 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
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- 2023-06-15
0104 , 0115 0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-气体净化剂,
0104-生产染料用化学试剂,
0115-工业用胶,
0115-工业用黏合剂
0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-气体净化剂;0104-生产染料用化学试剂;0115-工业用胶;0115-工业用黏合剂 - 1858
- 2023-10-06
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2023-07-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
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