
【盛美半导体】商标详情

- 盛美半导体
- 83810824
- 已初审
- 普通商标
- 2025-03-04
0709 , 0717 , 0723 , 0726 , 0729 , 0733 , 0742 , 0744 , 0752 , 0754 -化学液混合和供给设备,
-半导体制造用氧化/扩散设备,
-半导体晶片处理设备(兆声波清洗设备),
-去胶机,
0709-混合机(机器),
0717-太阳能电池制造机械,
0717-电池机械,
0723-混合机(机器),
0726-洗胶机,
0726-涂胶机,
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0729-化学机械抛光设备,
0733-混合机(机器),
0742-抛光机器和设备(电动的),
0742-抛光机械和设备,
0744-LED制造设备,
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0744-制造用半导体曝光设备,
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0754-电镀机
-化学液混合和供给设备;-半导体制造用氧化/扩散设备;-半导体晶片处理设备(兆声波清洗设备);-去胶机;0709-混合机(机器);0717-太阳能电池制造机械;0717-电池机械;0723-混合机(机器);0726-洗胶机;0726-涂胶机;0729-制清胶机;0729-化学加工用混合机;0729-化学工业用电动机械;0729-化学机械抛光设备;0733-混合机(机器);0742-抛光机器和设备(电动的);0742-抛光机械和设备;0744-LED制造设备;0744-制造显示面板用的蚀刻设备;0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造机;0744-半导体制造用光刻设备;0744-半导体制造用热处理设备;0744-半导体制造用离子注入设备;0744-半导体制造用薄膜沉积设备;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备(干法刻蚀设备);0744-半导体晶片处理设备(湿法刻蚀设备);0744-半导体晶片清洗设备;0744-半导体芯片制造设备;0744-印刷电路板处理机;0744-存储芯片制造机;0744-微电子工业设备;0744-液晶显示装置制造设备;0744-电子元件制造设备;0744-电子工业设备;0744-等离子刻蚀机;0744-集成电路制造机械(电子工业设备);0752-半导体晶片清洗设备;0752-废物处理装置;0752-清洗设备;0752-电动清洁机械和设备;0754-电镀机 - 1950
- 2025-09-06
- 盛美半导体设备(上海)股份有限公司
- 上海市上海 市************
- 上海专利商标事务所有限公司
2025-07-09 商标注册申请 | 驳回通知发文
2025-05-14 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-04-18 商标注册申请 | 补正通知发文
2025-03-04 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-09-06 第1950期 查看公告
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