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【HORI】商标详情
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- HORI
- 78842473
- 已注册
- 普通商标
- 2024-05-27
0104 , 0107 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-去光材料,
0104-工业用洗净剂,
0104-生产 加工用去污剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-脱模制剂,
0104-腐蚀剂,
0104-荧光粉,
0107-光谱感光板,
0107-感光板,
0107-感光箔,
0107-感光纸,
0107-未曝光的X光胶片,
0107-未曝光的干式胶片,
0107-未曝光的感光胶片
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-去光材料;0104-工业用洗净剂;0104-生产加工用去污剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-脱模制剂;0104-腐蚀剂;0104-荧光粉;0107-光谱感光板;0107-感光板;0107-感光箔;0107-感光纸;0107-未曝光的X光胶片;0107-未曝光的干式胶片;0107-未曝光的感光胶片 - 1908
- 2024-10-20
- 1920
- 2025-01-21
- 2025-01-21-2035-01-20
- 湖南初源新材料股份有限公司
- 湖南省娄底市************
- 北京高文律师事务所
2024-10-11 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-08-16 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-06-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-27 商标注册申请 | 申请收文
- HORI
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- 已注册
- 普通商标
- 2024-05-27
0104 , 0107 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-去光材料,
0104-工业用洗净剂,
0104-生产加工用去污剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-脱模制剂,
0104-腐蚀剂,
0104-荧光粉,
0107-光谱感光板,
0107-感光板,
0107-感光箔,
0107-感光纸,
0107-未曝光的X光胶片,
0107-未曝光的干式胶片,
0107-未曝光的感光胶片
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-去光材料;0104-工业用洗净剂;0104-生产加工用去污剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-脱模制剂;0104-腐蚀剂;0104-荧光粉;0107-光谱感光板;0107-感光板;0107-感光箔;0107-感光纸;0107-未曝光的X光胶片;0107-未曝光的干式胶片;0107-未曝光的感光胶片 - 1908
- 2024-10-20
- 1920
- 2025-01-21
- 2025-01-21-2035-01-20
- 湖南初源新材料股份有限公司
- 湖南省娄底市************
- 北京高文律师事务所
2024-10-11 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-08-16 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-06-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-27 商标注册申请 | 申请收文
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