【岱斯利尔 NEXRIER】商标详情
- 岱斯利尔 NEXRIER
- 42755941
- 已注册
- 普通商标
- 2019-12-02
0104 , 0108 , 0110 , 0115 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-纸用聚合物涂布剂,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）,
0108-聚合塑料,
0110-纺织品阻燃涂层用化学制剂,
0115-涂层和密封用工业黏合剂,
0115-陶瓷涂层用黏合剂
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-眼镜片用化学涂层;0104-纸用聚合物涂布剂;0108-离子交换树脂膜（化学制剂）;0108-聚合塑料;0110-纺织品阻燃涂层用化学制剂;0115-涂层和密封用工业黏合剂;0115-陶瓷涂层用黏合剂 - 1701
- 2020-06-27
- 1713
- 2020-09-28
- 2020-09-28-2030-09-27
- 爱帛化学科技有限公司
- 韩国京畿道华城市麻道面青园产团7街38，邮编：18543
- 杭州信诺知识产权代理有限公司
2023-08-19 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2023-07-06 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2023-07-04 变更商标代理人 | 不予核准通知打印发送
2023-06-27 变更商标代理人 | 申请收文
2020-11-04 商标注册申请 | 注册证发文
2019-12-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-12-02 商标注册申请 | 申请收文
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- 42755941
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- 2019-12-02
0104 , 0108 , 0110 , 0115 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产 印刷电路板用化学涂层,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-纸用聚合物涂布剂,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）,
0108-聚合塑料,
0110-纺织品阻燃涂层用化学制剂,
0115-涂层和密封用工业黏合剂,
0115-陶瓷涂层用黏合剂
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-眼镜片用化学涂层;0104-纸用聚合物涂布剂;0108-离子交换树脂膜（化学制剂）;0108-聚合塑料;0110-纺织品阻燃涂层用化学制剂;0115-涂层和密封用工业黏合剂;0115-陶瓷涂层用黏合剂 - 1701
- 2020-06-27
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2023-07-04 变更商标代理人 | 不予核准通知打印发送
2023-06-27 变更商标代理人 | 申请收文
2020-11-04 商标注册申请 | 注册证发文
2019-12-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-12-02 商标注册申请 | 申请收文
