
【申缇可】商标详情

- 申缇可
- 92534612
- 待审中
- 普通商标
- 2026-06-22
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0108 , 0112 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-硅,
0102-碳化硅(原材料),
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用洗净剂,
0104-工业用软化剂,
0104-胶溶剂,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工环氧树脂,
0112-焊接用化学品,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0101-硅;0102-碳化硅(原材料);0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用洗净剂;0104-工业用软化剂;0104-胶溶剂;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0108-未加工合成树脂;0108-未加工环氧树脂;0112-焊接用化学品;0115-工业用黏合剂 - 申玥半导体(深圳)有限公司
- 广东省深圳市************
- 北京市中伦律师事务所
2026-07-13 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-06-22 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0108 , 0112 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-硅,
0102-碳化硅(原材料),
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用洗净剂,
0104- 工业用软化剂,
0104-胶溶剂,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工环氧树脂,
0112-焊接用化学品,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0101-硅;0102-碳化硅(原材料);0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用洗净剂;0104-工业用软化剂;0104-胶溶剂;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0108-未加工合成树脂;0108-未加工环氧树脂;0112-焊接用化学品;0115-工业用黏合剂 - 申玥半导体(深圳)有限公司
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