【HDA】商标详情
- HDA
- 996078
- 已注册
- 普通商标
- 1995-04-27
0104 0104-在制造半导体及其相关产品的过程中用于清洗光效抗蚀剂和蚀刻后残余物的化学制剂
0104-在制造半导体及其相关产品的过程中用于清洗光效抗蚀剂和蚀刻后残余物的化学制剂 - 578
- 1997-02-07
- 590
- 1997-05-07
- 2017-05-07-2027-05-06
- EKC技术公司
- 美国
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2017-08-25 商标续展 | 核准通知打印发送
2017-06-02 商标续展 | 等待打印受理通知书
2017-04-24 商标续展 | 申请收文
2007-07-23 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2007-03-14 商标续展 | 申请收文
1995-04-27 商标注册申请 | 申请收文
- HDA
- 996078
- 已注册
- 普通商标
- 1995-04-27
0104 0104-在制造半导体及其相关产品的过程中用于清洗光效抗蚀剂和蚀刻后残余物的化学制剂
0104-在制造半导体及其相关产品的过程中用于清洗光效抗蚀剂和蚀刻后残余物的化学制剂 - 578
- 1997-02-07
- 590
- 1997-05-07
- 2017-05-07-2027-05-06
- EKC技术公司
- 美国
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2017-08-25 商标续展 | 核准通知打印发送
2017-06-02 商标续展 | 等待打印受理通知书
2017-04-24 商标续展 | 申请收文
2007-07-23 商标续展 | 打印核准续展注册商标证明
2007-03-14 商标续展 | 申请收文
1995-04-27 商标注册申请 | 申请收文
