【SHICN-03】商标详情
- SHICN-03
- 85192059
- 待审中
- 普通商标
- 2025-05-09
0101 , 0104 0101-半导体用硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 上海爱晶玖半导体技术有限公司
- 上海市上海市************
- 扬州文华商标事务所有限公司
2025-08-26 商标注册申请 | 驳回通知书发文
2025-05-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-05-09 商标注册申请 | 申请收文
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- 85192059
- 待审中
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- 2025-05-09
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0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
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