【中伟】商标详情
- 中伟
- 63934128
- 已注册
- 普通商标
- 2022-04-12
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-硫,
0101-钠,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0103-工业用同位素,
0103-科学用放射性元素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-电池用防硫化剂
0101-半导体用硅;0101-硫;0101-钠;0102-金 属氧化物;0102-非金属氧化物;0103-工业用同位素;0103-科学用放射性元素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-电池用防硫化剂 - 1815
- 2022-11-13
- 1827
- 2023-02-14
- 2023-02-14-2033-02-13
- 湖南中伟控股集团有限公司
- 湖南省长沙市************
- 长沙诚一知识产权代理有限公司
2023-03-07 商标注册申请 | 注册证发文
2022-10-28 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-09-02 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-04-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-04-12 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-硫,
0101-钠,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0103-工业用同位素,
0103-科学用放射性元素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-电池用防硫化剂
0101-半导体用硅;0101-硫;0101-钠;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0103-工业用同位素;0103-科学用放射性元素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-电池用防硫化剂 - 1815
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2022-09-02 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-04-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-04-12 商标注册申请 | 申请收文
