【图形】商标详情
- 图形
- 77445031
- 已注册
- 普通商标
- 2024-03-21
4209 , 4216 4209-为他人研究和开发新产品,
4209-光学组件的设计,
4209-半导体封装设计,
4209-半导体设计,
4209-技术开发领域的咨询服务,
4209-技术研究,
4209-技术项目研究,
4209-集成电路设计,
4216-工业品外观设计
4209-为他人研究和开发新产品;4209-光学组件的设计;4209-半导体封装设计;4209-半导体设计;4209-技术开发领 域的咨询服务;4209-技术研究;4209-技术项目研究;4209-集成电路设计;4216-工业品外观设计 - 1904
- 2024-09-20
- 攀枝花美斯特光电科技有限公司
- 四川省攀枝花市************
- 成都金铭华烨科技咨询有限公司
2024-09-10 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-07-17 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-04-09 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-03-21 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2024-03-21
4209 , 4216 4209-为他人研究和开发新产品,
4209-光学组件的设计,
4209-半导体封装设计,
4209-半导体设计,
4209-技术开发领域的咨询服务,
4209-技术研究,
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4209-集成电路设计,
4216-工业品外观设计
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- 2024-09-20
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2024-04-09 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-03-21 商标注册申请 | 申请收文
