【TOPTO】商标详情
- TOPTO
- 42733253
- 已注册
- 普通商标
- 2019-11-30
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-硅,
0101-碳,
0102-有机金属化合物,
0102-碳化硅（原材料）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用碳化硅,
0115-工业用黏合剂
0101-硅;0101-碳;0102-有机金属化合物;0102-碳化硅（原材料）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-工业用碳化硅;0115-工业用黏合剂 - 1757
- 2021-08-27
- 1769
- 2021-11-28
- 2021-11-28-2031-11-27
- 南京高光半导体材料有限公司
- 江苏省南京市************
- 国商商标事务所有限公司
2021-12-30 驳回复审 | 打印注册证
2021-12-30 驳回复审 | 等待打印注册证
2021-04-13 驳回复审 | 实审裁文发文
2021-01-13 驳回复审 | 评审分案
2020-10-12 驳回复审 | 申请收文
2020-09-11 商标注册申请 | 驳回通知发文
2019-12-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-11-30 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2019-11-30
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-硅,
0101-碳,
0102-有机金属化合物,
0102-碳化硅（原材料）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用 化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用碳化硅,
0115-工业用黏合剂
0101-硅;0101-碳;0102-有机金属化合物;0102-碳化硅（原材料）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-工业用碳化硅;0115-工业用黏合剂 - 1757
- 2021-08-27
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2021-04-13 驳回复审 | 实审裁文发文
2021-01-13 驳回复审 | 评审分案
2020-10-12 驳回复审 | 申请收文
2020-09-11 商标注册申请 | 驳回通知发文
2019-12-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-11-30 商标注册申请 | 申请收文
