【赛可特】商标详情
- 赛可特
- 67521420
- 已注册
- 普通商标
- 2022-09-29
0101 , 0102 , 0104 0101-工业用氧,
0101-干冰（二氧化碳）,
0101-氙,
0101-氢,
0101-氧,
0101-氩,
0101-氪,
0101-氮,
0101-液体二氧化硫,
0101-液体二氧化碳,
0101-焊接用保护气体,
0102-甲烷,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-工业用氧;0101-干冰（二氧化碳）;0101-氙;0101-氢;0101-氧;0101-氩;0101-氪;0101-氮;0101-液体二氧化硫;0101-液体二氧化碳;0101-焊接用保护气体;0102-甲烷;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1833
- 2023-03-27
- 1845
- 2023-06-28
- 2023-06-28-2033-06-27
- 赛可特气体技术（上海）有限公司
- 上海市上海市************
- 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司
2023-07-20 商标注册申请 | 注册证发文
2023-03-16 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-01-19 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2023-01-19 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-10-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-10-19 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-09-29 商标注册申请 | 申请收文
- 赛可特
- 67521420
- 已注册
- 普通商标
- 2022-09-29
0101 , 0102 , 0104 0101-工业用氧,
0101-干冰（二氧化碳）,
0101-氙,
0101-氢,
0101-氧,
0101-氩,
0101-氪,
0101-氮,
0101-液体二氧化硫,
0101-液体二氧化碳,
0101-焊接用保护气体,
0102-甲烷,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-工业用氧;0101-干冰（二氧化碳）;0101-氙;0101-氢;0101-氧;0101-氩;0101-氪;0101-氮;0101-液体二氧化硫;0101-液体二氧化碳;0101-焊接用保护气体;0102-甲烷;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1833
- 2023-03-27
- 1845
- 2023-06-28
- 2023-06-28-2033-06-27
- 赛可特气体技术（上海）有限公司
- 上海市上海市************
- 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司
2023-07-20 商标注册申请 | 注册证发文
2023-03-16 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-01-19 商标注册申请 | 等待驳回 通知发文
2023-01-19 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-10-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-10-19 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-09-29 商标注册申请 | 申请收文
