【图形】商标详情
- 图形
- 85027861
- 已注册
- 普通商标
- 2025-04-29
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0115 0101-半导体用硅,
0102-工业用盐,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用洗净剂,
0104-水净化用化学品,
0104-蓄电池用防泡沫溶液,
0104-非家用抗静电剂,
0106-生物化学催化剂,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0102-工业用盐;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用洗净剂;0104-水净化用化学品;0104-蓄电池用防泡沫溶液;0104-非家用抗静电剂;0106-生物化学催化剂;0115-工业用黏合剂 - 1950
- 2025-09-06
- 1962
- 2025-12-07
- 2025-12-07-2035-12-06
- 润鹏半导体（深圳）有限公司
- 广东省深圳市************
- 华进联合专利商标代理有限公司
2025-12-30 商标注册申请 | 注册证发文
2025-05-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-04-29 商标注册申请 | 申请收文
- 图形
- 85027861
- 已注册
- 普通商标
- 2025-04-29
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0115 0101-半导体用硅,
0102-工业用盐,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用洗净剂,
0104-水净化用化学品,
0104-蓄电池用防泡沫溶液,
0104-非家用抗静电剂,
0106-生物化学催化剂,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0102-工业用盐;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用洗净剂;0104-水净化用化学品;0104-蓄电池用防泡沫溶液;0104-非家用抗静电剂;0106-生物化学催化剂;0115-工业用黏合剂 - 1950
- 2025-09-06
- 1962
- 2025-12-07
- 2025-12-07-2035-12-06
- 润鹏半导体（深圳）有限公司
- 广东省深圳市************
- 华进联合专利商标代理有限公司
2025-12-30 商标注册申请 | 注册证发文
2025-05-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-04-29 商标注册申请 | 申请收文
