
【GIGACLEAN】商标详情

- GIGACLEAN
- 7012177
- 已注册
- 普通商标
- 2008-10-21
0104 , 0106 , 0107 0104-半导体用光阻液,
0104-去光材料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用洗净剂,
0104-研磨剂(和研磨剂配用的辅助液),
0104-金属腐蚀剂,
0104-集成电 路用抗蚀剂,
0106-科学用化学制剂(非医用和兽医用),
0107-显影剂,
0107-照相用感光剂
0104-半导体用光阻液;0104-去光材料;0104-工业用化学品;0104-工业用洗净剂;0104-研磨剂(和研磨剂配用的辅助液);0104-金属腐蚀剂;0104-集成电路用抗蚀剂;0106-科学用化学制剂(非医用和兽医用);0107-显影剂;0107-照相用感光剂 - 1213
- 2010-04-27
- 1225
- 2010-07-28
- 2020-07-28-2030-07-27
- 盟智科技股份有限公司
- 台湾省桃园市************
- 北京申翔知识产权代理有限公司
2020-08-13 商标续展 | 核准通知打印发送
2020-06-23 商标续展 | 补正通知打印发送
2020-06-04 商标续展 | 申请收文
2020-06-02 商标续展 | 申请收文
2010-08-16 商标注册申请 | 打印注册证
2008-11-11 商标注册申请 | 打印受理通知
2008-10-21 商标注册申请 | 申请收文
- GIGACLEAN
- 7012177
- 已注册
- 普通商标
- 2008-10-21
0104 , 0106 , 0107 0104-半导体用光阻液,
0104-去光材料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用 洗净剂,
0104-研磨剂(和研磨剂配用的辅助液),
0104-金属腐蚀剂,
0104-集成电路用抗蚀剂,
0106-科学用化学制剂(非医用和兽医用),
0107-显影剂,
0107-照相用感光剂
0104-半导体用光阻液;0104-去光材料;0104-工业用化学品;0104-工业用洗净剂;0104-研磨剂(和研磨剂配用的辅助液);0104-金属腐蚀剂;0104-集成电路用抗蚀剂;0106-科学用化学制剂(非医用和兽医用);0107-显影剂;0107-照相用感光剂 - 1213
- 2010-04-27
- 1225
- 2010-07-28
- 2020-07-28-2030-07-27
- 盟智科技股份有限公司
- 台湾省桃园市************
- 北京申翔知识产权代理有限公司
2020-08-13 商标续展 | 核准通知打印发送
2020-06-23 商标续展 | 补正通知打印发送
2020-06-04 商标续展 | 申请收文
2020-06-02 商标续展 | 申请收文
2010-08-16 商标注册申请 | 打印注册证
2008-11-11 商标注册申请 | 打印受理通知
2008-10-21 商标注册申请 | 申请收文
