【卡瑟清】商标详情
- 卡瑟清
- 49088559
- 已注册
- 普通商标
- 2020-08-20
0102 , 0104 0102-清洁剂工业用酶制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-吸附剂,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-工业用除垢剂,
0104-消光剂,
0104-消泡剂,
0104-防污剂
0102-清洁剂工业用酶制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104- 半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-吸附剂;0104-工业用化学制剂;0104-工业用清洁剂;0104-工业用除垢剂;0104-消光剂;0104-消泡剂;0104-防污剂 - 1728
- 2021-01-20
- 1740
- 2021-04-21
- 2021-04-21-2031-04-20
- 上海凯清贸易有限公司
- 上海市上海市************
- 知域互联科技有限公司
2022-10-10 商标转让 | 核准证明打印发送
2022-06-09 商标转让 | 申请收文
2022-06-08 商标转让 | 申请收文
2021-11-11 商标转让 | 核准证明打印发送
2021-08-03 商标转让 | 补正通知打印发送
2021-05-27 商标转让 | 申请收文
2021-05-25 商标转让 | 申请收文
2021-05-22 商标注册申请 | 注册证发文
2020-09-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-08-20 商标注册申请 | 申请收文
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0102 , 0104 0102-清洁剂工业用酶制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-吸附剂,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-工业用除垢剂,
0104-消光剂,
0104-消泡剂,
0104-防污剂
0102-清洁剂工业用酶制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-吸附剂;0104-工业用化学制剂;0104-工业用清洁剂;0104-工业用除垢剂;0104-消光剂;0104-消泡剂;0104-防污剂 - 1728
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