
【VERACE】商标详情

- VERACE
- 82923450
- 待审中
- 普通商标
- 2025-01-03
0729 , 0744 , 0753 -半导体制造机器及其结构件和配件,
-热处理反应器和化学气相沉积反应器,用于半导体晶片热处理的化学反应器,
-由用于容纳半导体晶片及其结构部件和配件的真空室组成的半导体制造机器和系统,
0729-化学加工用分离机,
0729-化学加工用萃取机,
0729-化学加工用过滤机,
0729-化学工业用电动机械,
0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机器,
0744-半导体制造用光刻机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0753-化学加工用过滤机
-半导体制造机器及其结构件和配件;-热处理反应器和化学气相沉积反应器,用于半导体晶片热处理的化学反应器;-由用于容纳半导体晶片及其结构部件和配件的真空室组成的半导体制造机器和系统;0729-化学加工用分离机;0729-化学加工用萃取机;0729-化学加工用过滤机;0729-化学工业用电动机械;0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造机器;0744-半导体制造用光刻机;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-半导体芯片制造设备;0753-化学加工用过滤机 - 阿思姆知识产权私人股份有限公司
- 弗莱福兰省阿尔梅勒************
- 北京市柳沈律师事务所
2025-04-21 驳回复审 | 申请收文
2025-04-20 驳回复审 | 申请收文
2025-04-11 商标注册申请 | 驳回通知发文
2025-03-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-02-08 商标注册申请 | 补正通知发文
2025-01-03 商标注册申请 | 申请收文
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- 2025-01-03
0729 , 0744 , 0753 -半导体制造机器及其结构件和配件,
-热处理反应器和化学气相沉积反应器,用于半导体晶片热处理的化学反应器,
-由用于容纳半导体晶片及其结构部件和配件的真空室组成的半导体制造机器和系统,
0729-化学加工用分离机,
0729-化学加工用萃取机,
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0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机器,
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0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0753-化学加工用过滤机
-半导体制造机器及其结构件和配件;-热处理反应器和化学气相沉积反应器,用于半导体晶片热处理的化学反应器;-由用于容纳半导体晶片及其结构部件和配件的真空室组成的半导体制造机器和系统;0729-化学加工用分离机;0729-化学加工用萃取机;0729-化学加工用过滤机;0729-化学工业用电动机械;0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造机器;0744-半导体制造用光刻机;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-半导体芯片制造设备;0753-化学加工用过滤机 - 阿思姆知识产权私人股份有限公司
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2025-04-21 驳回复审 | 申请收文
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2025-03-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-02-08 商标注册申请 | 补正通知发文
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