
【CCNM 驰创】商标详情

- CCNM 驰创
- 88596223
- 待审中
- 普通商标
- 2025-11-14
0102 , 0104 , 0106 , 0114 0102-表面活性化学剂,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-制颜料用化学品,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-橡胶用化学增强剂,
0104-瓷土,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0114-皮革加工化学制剂
0102-表面活性化学剂;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-制颜料用化学品;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-橡胶用化学增强剂;0104-瓷土;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0114-皮革加工化学制剂 - 佛山驰创纳米科技有限公司
- 广东省佛山市禅城区张槎街道华宝南路13号二座十层自编C座东侧十层107房B03室
- 中知尚壹(河南)知识产权服务有限公司
2025-12-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-11-14 商标注册申请 | 申请收文
- CCNM 驰创
- 88596223
- 待审中
- 普通商标
- 2025-11-14
0102 , 0104 , 0106 , 0114 0102-表面活性化学剂,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-制技术陶瓷用合成物,
0104-制颜料用化学品,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-橡胶用化学增强剂,
0104-瓷土,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0114-皮革加工化学制剂
0102-表面活性化学剂;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-制技术陶瓷用合成物;0104-制颜料用化学品;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-橡胶用化学增强剂;0104-瓷土;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0114-皮革加工化学制剂