
【ICONOS】商标详情

- ICONOS
- G1804745
- 待审中
- 普通商标
- 2024-08-15
4001 , 4002 , 4006 , 4007 , 4015 4001-使用化学、机械、热或热机械工艺喷涂涂料,并提供相关信息,
4001-半导体表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4001-塑料表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4001-提供与制造电陶瓷用材料的处理有关的信息,
4001-提供材料处理信息,
4001-玻璃表面的处 理和涂层,并提供相关信息,
4001-通过化学、机械、热、热机械、化学气相沉积、物理气相沉积和真空沉积工艺在物体表面应用薄膜,并提供相关信息,
4001-金属表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4001-陶瓷表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4002-材料处理,即压电材料的薄金属氧化物薄膜形成与镀膜,
4002-材料处理,即电池正极活性材料表面薄金属氧化物薄膜的形成与镀膜,
4002-物体表面金属化服务,
4002-电镀和金属涂覆,
4002-通过化学、机械、热和热机械工艺在物体表面应用薄金属氧化物薄膜,
4002-金属制品表面精加工,
4002-金属和金属制品的硬化,
4002-金属处理和铸造,
4002-金属氧化物化合物的定制制造,即通过化学、机械、热和热机械工艺合成金属氧化物水溶液的多种化学前体,
4002-金属表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4006-材料处理,即玻璃薄金属氧化物薄膜的形成与镀膜,
4006-玻璃表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4007-提供与制造电陶瓷用材料的处理有关的信息,
4007-陶瓷表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4015-使用化学、机械、热或热机械工艺喷涂涂料,并提供相关信息,
4015-半导体表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4015-塑料表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4015-涂料混合,
4015-通过化学、机械、热、热机械、化学气相沉积、物理气相沉积和真空沉积工艺在物体表面应用薄膜,并提供相关信息,
4015-通过化学、机械、热和热机械工艺在物体表面应用薄金属氧化物薄膜,
4015-采用化学气相沉积技术涂覆涂料,
4015-金属氧化物化合物的定制制造,即通过化学、机械、热和热机械工艺合成金属氧化物水溶液的多种化学前体
4001-使用化学、机械、热或热机械工艺喷涂涂料,并提供相关信息;4001-半导体表面的处理和涂层,并提供相关信息;4001-塑料表面的处理和涂层,并提供相关信息;4001-提供与制造电陶瓷用材料的处理有关的信息;4001-提供材料处理信息;4001-玻璃表面的处理和涂层,并提供相关信息;4001-通过化学、机械、热、热机械、化学气相沉积、物理气相沉积和真空沉积工艺在物体表面应用薄膜,并提供相关信息;4001-金属表面的处理和涂层,并提供相关信息;4001-陶瓷表面的处理和涂层,并提供相关信息;4002-材料处理,即压电材料的薄金属氧化物薄膜形成与镀膜;4002-材料处理,即电池正极活性材料表面薄金属氧化物薄膜的形成与镀膜;4002-物体表面金属化服务;4002-电镀和金属涂覆;4002-通过化学、机械、热和热机械工艺在物体表面应用薄金属氧化物薄膜;4002-金属制品表面精加工;4002-金属和金属制品的硬化;4002-金属处理和铸造;4002-金属氧化物化合物的定制制造,即通过化学、机械、热和热机械工艺合成金属氧化物水溶液的多种化学前体;4002-金属表面的处理和涂层,并提供相关信息;4006-材料处理,即玻璃薄金属氧化物薄膜的形成与镀膜;4006-玻璃表面的处理和涂层,并提供相关信息;4007-提供与制造电陶瓷用材料的处理有关的信息;4007-陶瓷表面的处理和涂层,并提供相关信息;4015-使用化学、机械、热或热机械工艺喷涂涂料,并提供相关信息;4015-半导体表面的处理和涂层,并提供相关信息;4015-塑料表面的处理和涂层,并提供相关信息;4015-涂料混合;4015-通过化学、机械、热、热机械、化学气相沉积、物理气相沉积和真空沉积工艺在物体表面应用薄膜,并提供相关信息;4015-通过化学、机械、热和热机械工艺在物体表面应用薄金属氧化物薄膜;4015-采用化学气相沉积技术涂覆涂料;4015-金属氧化物化合物的定制制造,即通过化学、机械、热和热机械工艺合成金属氧化物水溶液的多种化学前体 - 2024-03-25-2034-03-25
- MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
- 东京都东京************
- 国际局
2025-07-22 驳回复审 | 实审裁文发文
2025-02-14 驳回复审 | 申请收文
2025-02-05 领土延伸 | 驳回电子发文
2024-08-15 商标注册申请 | 申请收文
2024-08-15 领土延伸 | 申请收文
- ICONOS
- G1804745
- 待审中
- 普通商标
- 2024-08-15
4001 , 4002 , 4006 , 4007 , 4015 4001-使用化学、机械、热或热机械工艺喷涂涂料,并提供相关信息,
4001-半导体表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4001-塑料表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4001-提供与制造电陶瓷用材料的处理有关的信息,
4001-提供材料处理信息,
4001-玻璃表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4001-通过化学、机械、热、热机械、化学气相沉积、物理气相沉积和真空沉积工艺在物体表面应用薄膜,并提供相关信息,
4001-金属表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4001-陶瓷表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4002-材料处理,即压电材料的薄金属氧化物薄膜形成与镀膜,
4002-材料处理,即电池正极活性材料表面薄金属氧化物薄膜的形成与镀膜,
4002-物体表面金属化服务,
4002-电镀和金属涂覆,
4002-通过化学、机械、热和热机械工艺在物体表面应用薄金属氧化物薄膜,
4002-金属制品表面精加工,
4002-金属和金属制品的硬化,
4002-金属处理和铸造,
4002-金属氧化物化合物的定制制造,即通过化学、机械、热和热机械工艺合成金属氧化 物水溶液的多种化学前体,
4002-金属表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4006-材料处理,即玻璃薄金属氧化物薄膜的形成与镀膜,
4006-玻璃表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4007-提供与制造电陶瓷用材料的处理有关的信息,
4007-陶瓷表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4015-使用化学、机械、热或热机械工艺喷涂涂料,并提供相关信息,
4015-半导体表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4015-塑料表面的处理和涂层,并提供相关信息,
4015-涂料混合,
4015-通过化学、机械、热、热机械、化学气相沉积、物理气相沉积和真空沉积工艺在物体表面应用薄膜,并提供相关信息,
4015-通过化学、机械、热和热机械工艺在物体表面应用薄金属氧化物薄膜,
4015-采用化学气相沉积技术涂覆涂料,
4015-金属氧化物化合物的定制制造,即通过化学、机械、热和热机械工艺合成金属氧化物水溶液的多种化学前体
4001-使用化学、机械、热或热机械工艺喷涂涂料,并提供相关信息;4001-半导体表面的处理和涂层,并提供相关信息;4001-塑料表面的处理和涂层,并提供相关信息;4001-提供与制造电陶瓷用材料的处理有关的信息;4001-提供材料处理信息;4001-玻璃表面的处理和涂层,并提供相关信息;4001-通过化学、机械、热、热机械、化学气相沉积、物理气相沉积和真空沉积工艺在物体表面应用薄膜,并提供相关信息;4001-金属表面的处理和涂层,并提供相关信息;4001-陶瓷表面的处理和涂层,并提供相关信息;4002-材料处理,即压电材料的薄金属氧化物薄膜形成与镀膜;4002-材料处理,即电池正极活性材料表面薄金属氧化物薄膜的形成与镀膜;4002-物体表面金属化服务;4002-电镀和金属涂覆;4002-通过化学、机械、热和热机械工艺在物体表面应用薄金属氧化物薄膜;4002-金属制品表面精加工;4002-金属和金属制品的硬化;4002-金属处理和铸造;4002-金属氧化物化合物的定制制造,即通过化学、机械、热和热机械工艺合成金属氧化物水溶液的多种化学前体;4002-金属表面的处理和涂层,并提供相关信息;4006-材料处理,即玻璃薄金属氧化物薄膜的形成与镀膜;4006-玻璃表面的处理和涂层,并提供相关信息;4007-提供与制造电陶瓷用材料的处理有关的信息;4007-陶瓷表面的处理和涂层,并提供相关信息;4015-使用化学、机械、热或热机械工艺喷涂涂料,并提供相关信息;4015-半导体表面的处理和涂层,并提供相关信息;4015-塑料表面的处理和涂层,并提供相关信息;4015-涂料混合;4015-通过化学、机械、热、热机械、化学气相沉积、物理气相沉积和真空沉积工艺在物体表面应用薄膜,并提供相关信息;4015-通过化学、机械、热和热机械工艺在物体表面应用薄金属氧化物薄膜;4015-采用化学气相沉积技术涂覆涂料;4015-金属氧化物化合物的定制制造,即通过化学、机械、热和热机械工艺合成金属氧化物水溶液的多种化学前体 - 2024-03-25-2034-03-25
- MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
- 东京都东京************
- 国际局
2025-07-22 驳回复审 | 实审裁文发文
2025-02-14 驳回复审 | 申请收文
2025-02-05 领土延伸 | 驳回电子发文
2024-08-15 商标注册申请 | 申请收文
2024-08-15 领土延伸 | 申请收文


