【HOLOXAI】商标详情
- HOLOXAI
- 73468570
- 已注册
- 普通商标
- 2023-08-14
0104 , 0107 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0107-光谱感光板,
0107-摄影用感光剂,
0107-未曝光的干式胶片,
0107-未曝光的感光胶片,
0107-照片显影用化学合成物
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0107-光谱感光板;0107-摄影用感光剂;0107-未曝光的干式胶片;0107-未曝光的感光胶片;0107-照片显影用化学合成物 - 1864
- 2023-11-20
- 1876
- 2024-02-21
- 2024-02-21-2034-02-20
- 福建和光瞳尘科技有限公司
- 福建省泉州市************
- 知域互联科技有限公司
2024-03-14 商标注册申请 | 注册证发文
2023-09-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-08-14 商标注册申请 | 申请收文
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- 73468570
- 已注册
- 普通商标
- 2023-08-14
0104 , 0107 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0107-光谱感光板,
0107-摄影用感光剂,
0107-未曝光的干式胶片,
0107-未曝光的感光胶片,
0107-照片 显影用化学合成物
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0107-光谱感光板;0107-摄影用感光剂;0107-未曝光的干式胶片;0107-未曝光的感光胶片;0107-照片显影用化学合成物 - 1864
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- 2024-02-21-2034-02-20
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