【C】商标详情
- C
- G1504160
- 已注册
- 普通商标
- 2019-12-19
0717 , 0734 , 0744 , 0751 0717-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0734-运输用机械(大气或负压或预定气体环境下),
0744-原子层沉积机器(ALD—原子层沉积),
0744-在真空(所谓CVD法)或大气或暴露于等离子体状态下通过蒸发作用的半导体表面用表面处理机,以及在真空(所谓CVD法)或大气或暴露于等离子体状态下作用的半导体表面涂布机,
0744-基于等离子体和热辐射的表面处理机,
0744-热处理或制造过程用装置和设备,即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积(CVD装置)装置,
0744-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0744-用于蚀刻半导体表面的机器,
0751-热处理或制造过程用装置和设备,即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积(CVD装置)装置
0717-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0734-运输用机械(大气或负压或预定气体环境下);0744-原子层沉积机器(ALD—原子层沉积);0744-在真空(所谓CVD法)或大气或暴露于等离子体状态下通过蒸发作用的半导体表面用表面处理机,以及在真空(所谓CVD法)或大气或暴露于等离子体状态下作用的半导体表面涂布机;0744-基于等离子体和热辐射的表面处理机;0744-热处理或制造过程用装置和设备,即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积(CVD装置)装置;0744-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0744-用于蚀刻半导体表面的机器;0751-热处理或制造过程用装置和设备,即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积(CVD装置)装置 - 2019-10-17-2029-10-17
- CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
- 巴登-符腾堡布劳博伊伦************
2024-05-13 撤销连续三年停止使用注册商标 | 提供证明通知发文
2024-05-09 撤销连续三年停止使用注册商标 | 受理通知书发文
2024-03-21 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2020-08-18 驳回复审 | 申请收文
2020-06-04 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2020-06-04 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-12-19 领土延伸 | 申请收文
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- 2019-12-19
0717 , 0734 , 0744 , 0751 0717-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0734-运输用机械(大气或负压或预定气体环境下),
0744-原子层沉积机器(ALD—原子层沉积),
0744-在真空(所谓CVD法)或大气或暴露于等离子体状态下通过蒸发作用的半导体表面用表面处理机,以及在真空(所谓CVD法)或大气或暴露于等离子体状态下作用的半导体表面涂布机,
0744-基于等离子体和热辐射的表面处理机,
0744-热处理或制造过程用装置和设备,即涂层炉、 真空钎焊机、化学气相沉积(CVD装置)装置,
0744-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器,
0744-用于蚀刻半导体表面的机器,
0751-热处理或制造过程用装置和设备,即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积(CVD装置)装置
0717-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0734-运输用机械(大气或负压或预定气体环境下);0744-原子层沉积机器(ALD—原子层沉积);0744-在真空(所谓CVD法)或大气或暴露于等离子体状态下通过蒸发作用的半导体表面用表面处理机,以及在真空(所谓CVD法)或大气或暴露于等离子体状态下作用的半导体表面涂布机;0744-基于等离子体和热辐射的表面处理机;0744-热处理或制造过程用装置和设备,即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积(CVD装置)装置;0744-用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器;0744-用于蚀刻半导体表面的机器;0751-热处理或制造过程用装置和设备,即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积(CVD装置)装置 - 2019-10-17-2029-10-17
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