【因泰科;INTEC】商标详情
- 因泰科;INTEC
- 3274250
- 已驳回
- 普通商标
- 2002-08-14
0729 , 0744 0729-化学沉淀设备,
0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的工业涂护机,
0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的溅镀装置,
0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的真空淀积装置,
0744-半导体生产设备
0729-化学沉淀设备;0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的工业涂护机;0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的溅镀装置;0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的真空淀积装置;0744-半导体生产设备 - 因泰科有限公司
- 京畿道富川市************
- 永新专利商标代理有限公司
2003-07-30 商标注册申请 | 打印驳回或部分驳回通知书
2003-07-30 商标注册申请 | 打印驳回通知
2003-01-03 商标注册申请 | 等待补正回文
2003-01-03 商标注册申请 | 补正回文
2003-01-03 商标注册申请 | 补正收文
2002-09-11 商标注册申请 | 打印受理通知
2002-08-14 商标注册申请 | 商标注册申请中
2002-08-14 商标注册申请 | 申请收文
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0729 , 0744 0729-化学沉淀设备,
0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的工业涂护机,
0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的溅镀装置,
0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的真空淀积装置,
0744-半导体生产设备
0729-化学沉淀设备;0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的工业涂护机;0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的溅镀装置;0729-采用化学汽相淀积法或溅镀法为光学设备镜头镀涂层及制造半导体晶片所用的真空淀积装置;0744-半导体生产设备 - 因泰科有限公司
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