【WORLDSTAR 世星】商标详情
- WORLDSTAR 世星
- 71487111
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-11
0101 , 0104 , 0108 0101-工业用石墨,
0101-石墨烯,
0101-硅,
0101-蓄电池用人造石墨,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0108-未加工塑料,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）
0101-工业用石墨;0101-石墨烯;0101-硅;0101-蓄电池用人造石墨;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0108-未加工塑料;0108-离子交换树脂膜（化学制剂） - 1864
- 2023-11-20
- 1876
- 2024-02-21
- 2024-02-21-2034-02-20
- 世星科技股份有限公司
- 江苏省无锡市************
- 无锡珠峰商标事务所有限公司
2024-03-14 商标注册申请 | 注册证发文
2023-11-09 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-09-14 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-05-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-05-11 商标注册申请 | 申请收文
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- 71487111
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-11
0101 , 0104 , 0108 0101-工业用石墨,
0101-石墨烯,
0101-硅,
0101-蓄电池用人造石墨,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0108-未加工塑料,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）
0101-工业用石墨;0101-石墨烯;0101-硅;0101-蓄电池用人造石墨;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0108-未加工塑料;0108-离子交换树脂膜（化学制剂） - 1864
- 2023-11-20
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- 2024-02-21
- 2024-02-21-2034-02-20
- 世星科技股份有限公司
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2023-05-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-05-11 商标注册申请 | 申请收文
