【JOINPATH】商标详情
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- 2026-01-28
0101 , 0102 , 0104 0101-一氧化二氮,
0101-无水氨,
0101-氖,
0101-氘气,
0101-氙,
0101-氟,
0101-氢气,
0101-氦,
0101-氪,
0101-氯气,
0101-液体二氧化碳,
0101-焊接用保护气体,
0102-丙烯,
0102-乙烯,
0102-四氯化物,
0102-有机卤代硅烷,
0102-有机硅烷,
0102-氯氟碳化合物,
0102-硅烷,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-一氧化二氮;0101-无水氨;0101-氖;0101-氘气;0101-氙;0101-氟;0101-氢气;0101-氦;0101-氪;0101-氯气;0101-液体二氧化碳;0101-焊接用保护气体;0102-丙烯;0102-乙烯;0102-四氯化物;0102-有机卤代硅烷;0102-有机硅烷;0102-氯氟碳化合物;0102-硅烷;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1984
- 2026-05-20
- 卓益浦芯材料科技（上海）有限公司
- 上海市上海市************
- 南京标仔知识产权代理有限公司
2026-03-23 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-01-28 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-05-20 第1984期 查看公告
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0104-半导体制造用蚀刻剂,
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