【ARAKAWA CHEMICAL;RKW】商标详情
- ARAKAWA CHEMICAL;RKW
- 4786649
- 已注册
- 普通商标
- 2005-07-19
0706 , 0729 , 0752 0706-干燥机(脱水式),
0706-旋转式脱水机,
0729-松香设备,
0752-半导体装置及其精密零部件清洗设备,
0752-晶片凸起清洗设备,
0752-清洁用除尘装置,
0752-清洗设备,
0752-电动清洁机械和设备,
0752-电子零部件清洗设备,
0752-高压洗涤机
0706-干燥机(脱水式);0706-旋转式脱水机;0729-松香设 备;0752-半导体装置及其精密零部件清洗设备;0752-晶片凸起清洗设备;0752-清洁用除尘装置;0752-清洗设备;0752-电动清洁机械和设备;0752-电子零部件清洗设备;0752-高压洗涤机 - 1110
- 2008-03-06
- 1122
- 2008-06-07
- 2018-06-07-2028-06-06
- 荒川化学工业株式会社
- 大阪大阪市************
- 北京再言商标代理有限公司
2018-06-13 商标续展 | 核准通知打印发送
2018-06-04 商标续展 | 打印受理通知书
2018-06-04 商标续展 | 等待打印受理通知书
2018-05-14 商标续展 | 申请收文
2008-06-26 商标注册申请 | 打印注册证
2005-09-28 商标注册申请 | 打印受理通知
2005-07-19 商标注册申请 | 申请收文
- ARAKAWA CHEMICAL;RKW
- 4786649
- 已注册
- 普通商标
- 2005-07-19
0706 , 0729 , 0752 0706-干燥机(脱水式),
0706-旋转式脱水机,
0729-松香设备,
0752-半导体装置及其精密零部件清洗设备,
0752-晶片凸起清洗设备,
0752-清洁用除尘装置,
0752-清洗设备,
0752-电动清洁机械和设备,
0752-电子零部件清洗设备,
0752-高压洗涤机
0706-干燥机(脱水式);0706-旋转式脱水机;0729-松香设备;0752-半导体装置及其精密零部件清洗设备;0752-晶片凸起清洗 设备;0752-清洁用除尘装置;0752-清洗设备;0752-电动清洁机械和设备;0752-电子零部件清洗设备;0752-高压洗涤机 - 1110
- 2008-03-06
- 1122
- 2008-06-07
- 2018-06-07-2028-06-06
- 荒川化学工业株式会社
- 大阪大阪市************
- 北京再言商标代理有限公司
2018-06-13 商标续展 | 核准通知打印发送
2018-06-04 商标续展 | 打印受理通知书
2018-06-04 商标续展 | 等待打印受理通知书
2018-05-14 商标续展 | 申请收文
2008-06-26 商标注册申请 | 打印注册证
2005-09-28 商标注册申请 | 打印受理通知
2005-07-19 商标注册申请 | 申请收文
