【SK ENPULSE】商标详情
- SK ENPULSE
- G1713485
- 待审中
- 普通商标
- 2023-02-16
0101 , 0102 , 0104 0101-硅粉,
0101-硅粉,
0102-工业用碳化硅,
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0102-矾土,
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0102-碳化硅(原材料),
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0102-碳化硼,
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0104-制半导体用蚀刻剂,
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0104-制技术陶瓷用合成物,
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0104-制造用陶瓷基复合材料(CMC),
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0104-半 导体制造用去污剂,
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0104-半导体处理气,
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0104-半导体晶片平面化用工业化学品,
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0104-工业用化学制剂,
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0104-工业用途半导体研磨用化学浆料,
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0104-无机工业化学品,
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0104-有机工业化学品,
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0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
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0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料,
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- SK INC.
- 首尔特别市首尔************
- 国际局
2023-06-19 领土延伸 | 审查
2023-02-16 商标注册申请 | 申请收文
2023-02-16 领土延伸 | 申请收文
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0104-制技术陶瓷用合成物,
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0104-制造用陶瓷基复合材料(CMC),
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0104-半导体制造用去污剂,
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0104-半导体处理气,
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0104-半导体晶片平面化用工业化学品,
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0104-工业用化学制剂,
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0104-工业用途半导体研磨用化学浆料,
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0104-烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质,
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0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料,
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