【OPA】商标详情
- OPA
- 74998828
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-06
0101 , 0102 , 0104 0101-稀土,
0101-铕,
0102-乙烯,
0102-有机卤化物,
0102-有机硅烷,
0102-有机金属化合物,
0102-杂环化合物,
0102-氮化合物,
0102-苯胺,
0102-苯衍生物,
0102-酮,
0102-酯,
0102-醚,
0102-醛,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电 路制造用化学氧化剂,
0104-染料上光用化学品,
0104-荧光粉
0101-稀土;0101-铕;0102-乙烯;0102-有机卤化物;0102-有机硅烷;0102-有机金属化合物;0102-杂环化合物;0102-氮化合物;0102-苯胺;0102-苯衍生物;0102-酮;0102-酯;0102-醚;0102-醛;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-染料上光用化学品;0104-荧光粉 - 1878
- 2024-03-06
- 1890
- 2024-06-07
- 2024-06-07-2034-06-06
- 北京绿人科技有限责任公司
- 北京市北京市************
- 北京品源知识产权代理有限公司
2024-07-08 商标注册申请 | 注册证发文
2023-11-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-11-06 商标注册申请 | 申请收文
- OPA
- 74998828
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-06
0101 , 0102 , 0104 0101-稀土,
0101-铕,
0102-乙烯,
0102-有机卤化物,
0102-有机硅烷,
0102-有机金属化合物,
0102-杂环化合物,
0102-氮化合物,
0102-苯胺,
0102-苯衍生物,
0102-酮,
0102-酯,
0102-醚,
0102-醛,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-染料上光用化学品,
0104-荧光粉
0101-稀土;0101-铕;0102-乙烯;0102-有机卤化物;0102-有机硅烷;0102-有机金属化合物;0102-杂环化合物;0102-氮化合物;0102-苯胺;0102-苯衍生物;0102-酮;0102-酯;0102-醚;0102-醛;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-染料上光用化学品;0104-荧光粉 - 1878
- 2024-03-06
- 1890
- 2024-06-07
- 2024-06-07-2034-06-06
- 北京绿人科技有限责任公司
- 北京市北京市************
- 北京品源知识产权代理有限公司
2024-07-08 商标注册申请 | 注册证发文
2023-11-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-11-06 商标注册申请 | 申请收文