【新纳】商标详情
- 新纳
- 75007638
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-06
0729 , 0744 0729-化学加工用分离机,
0744-制造显示面板用的蚀刻设备,
0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0744-电子元件制造设备,
0744-电子工业设备,
0744-离子注入机,
0744-集成电路制造机械（电子工业设备）,
0744-静电工业设备
0729-化学加工用分离机;0744-制造显示面板用的蚀刻设备;0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造设备;0744-半导体芯片制造设备;0744-电子元件制造设备;0744-电子工业设备;0744-离子注入机;0744-集成电路制造机械（电子工业设备）;0744-静电工业设备 - 1931
- 2025-04-13
- 1943
- 2025-07-14
- 2025-07-14-2035-07-13
- 浙江新纳材料科技股份有限公司
- 浙江省金华市************
- 博冠知识产权（浙江）有限公司
2024-12-05 驳回复审 | 实审裁文发文
2024-03-05 驳回复审 | 申请收文
2024-03-03 驳回复审 | 申请收文
2024-02-08 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-12-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-12-02 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-11-06 商标注册申请 | 申请收文
- 新纳
- 75007638
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-06
0729 , 0744 0729-化学加工用分离机,
0744-制造显示面板用的蚀刻设备,
0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0744-电子元件制造设备,
0744-电子工业设备,
0744-离子注入机,
0744-集成电路制造机械（电子工业设备）,
0744-静电工业设备
0729-化学加工用分离机;0744-制造显示面板用的蚀刻设备;0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造设备;0744-半导体芯片制造设备;0744-电子元件制造设备;0744-电子工业设备;0744-离子注入机;0744-集成电路制造机械（电子工业设备）;0744-静电工业设备 - 1931
- 2025-04-13
- 1943
- 2025-07-14
- 2025-07-14-2035-07-13
- 浙江新纳材料科技股份有限公司
- 浙江省金华市************
- 博冠知识产权（浙江）有限公司
2024-12-05 驳回复审 | 实审裁文发文
2024-03-05 驳回复审 | 申请收文
2024-03-03 驳回复审 | 申请收文
2024-02-08 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-12-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-12-02 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-11-06 商标注册申请 | 申请收文
