【SEMILAB】商标详情
- SEMILAB
- G1769856
- 其他
- 普通商标
- 2024-01-04
4209 , 4210 , 4216 , 4220 4209-下列商品的设计与开发:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备,
4209-与下列商品相关的质量控制和质量认证服务:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备,
4210-对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量,
4216-下列商品的设计与开发:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业 半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备,
4220-下述用途的软件的设计、开发和测试:用于控制测量设备、评估产生的测量结果、执行相关模拟和控制制造过程
4209-下列商品的设计与开发:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备;4209-与下列商品相关的质量控制和质量认证服务:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备;4210-对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量;4216-下列商品的设计与开发:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备;4220-下述用途的软件的设计、开发和测试:用于控制测量设备、评估产生的测量结果、执行相关模拟和控制制造过程 - SEMILAB ZRT.
- 布达佩斯布达佩斯************
- 国际局
2024-09-26 领土延伸 | 驳回电子发文
2024-01-04 领土延伸 | 申请收文
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4210-对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量,
4216-下列商品的设计与开发:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备,
4220-下述用途的软件的设计、开发和测试:用于控制测量设备、评估产生的测量结果、执行相关模拟和控制制造过程
4209-下列商品的设计与开发:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备;4209-与下列商品相关的质量控制和质量认证服务:用于对半导体块、半导体晶 片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备;4210-对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量;4216-下列商品的设计与开发:用于对半导体块、半导体晶片、半导体工业半成品、薄膜结构和其他显微结构进行光学或电学测量的设备;4220-下述用途的软件的设计、开发和测试:用于控制测量设备、评估产生的测量结果、执行相关模拟和控制制造过程 - SEMILAB ZRT.
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