【POWERING THE FUTURE】商标详情
- POWERING THE FUTURE
- G1543165
- 待审中
- 普通商标
- 2020-07-30
0729 , 0744 0729-LPCVD（低压化学气相沉积）反应器,
0729-半导体制造设备，包括化学气相沉积和金属有机外延反应器，低挥发性半导体前体的鼓泡器,
0729-用于复合材料生长的HTCVD（高温化学气相沉积）反应器,
0729-用于复合材料生长的PVT（物理气相传输）升华器,
0744-半导体制造设备，包括化学气相沉积和金属有机外延反应器，低挥发性半导体前体的鼓泡器,
0744-高温晶片处理设备
0729-LPCVD（低压化学气相沉积）反应器;0729-半导体制造设备，包括化学气相沉积和金属有机外延反应器，低挥发性半导体前体的鼓泡器;0729-用于复合材料生长的HTCVD（高温化学气相沉积）反应器;0729-用于复合材料生长的PVT（物理气相传输）升华器;0744-半导体制造设备，包括化学气相沉积和金属有机外延反应器，低挥发性半导体前体的鼓泡器;0744-高温晶片处理设备 - 2020-03-10-2030-03-10
- LPE S.P.A.
- 米兰广域市米兰************
2021-03-04 驳回复审 | 申请收文
2021-01-17 领土延伸 | 等待驳回电子发文
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0729 , 0744 0729-LPCVD（低压化学气相沉积）反应器,
0729-半导体制造设备，包括化学气相沉积和金属有机外延反应器，低挥发性半导体前体的鼓泡器,
0729-用于复合材料生长的HTCVD（高温化学气相沉积）反应器,
0729-用于复合材料生长的PVT（物理气相传输）升华器,
0744-半导体制造设备，包括化学气相沉积和金属有机外延反应器，低挥发性半导体前体的鼓泡器,
0744-高温晶片处理设备
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