【NOEIC】商标详情
- NOEIC
- 52711648
- 已注册
- 普通商标
- 2021-01-04
4209 , 4220 4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-技术研究,
4209-替他人研究和开发新产品,
4209-科学研究和开发,
4209-集成电路设计,
4220-信息技术咨询服务,
4220-把有形的数据或文件转换成电子媒体,
4220-电子信息的数据转换,
4220-电子数据存储
4209-光学组件的设计;4209-半导体加工技术研究;4209-技术研究;4209-替他人研究和开发新产品;4209-科学研究和开发;4209-集成电路设计;4220-信息技术咨询服务;4220-把有形的数据或文件转换成电子媒体;4220-电子信息的数据转换;4220-电子数据存储 - 1747
- 2021-06-13
- 1759
- 2021-09-14
- 2021-09-14-2031-09-13
- 武汉光谷信息光电子创新中心有限公司
- 湖北省武汉市************
- 北京派特恩知识产权代理有限公司
2021-10-29 商标注册申请 | 注册证发文
2021-01-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-01-04 商标注册申请 | 申请收文
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- 2021-01-04
4209 , 4220 4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-技术研究,
4209-替他人研究和开发新产品,
4209-科学研究和开发,
4209-集成电路设计,
4220-信息技术咨询服务,
4220-把有形的数据或文件转换成电子媒体,
4220-电子信息的数据转换,
4220-电子数据存储
4209-光学组件的设计;4209-半导体加工技术研究;4209-技术研究;4209-替他人研究和开发新产品;4209-科学研究和开发;4209-集成电路设计;4220-信息技术咨询服务;4220-把有形的数据或文件转换成电子媒体;4220-电子信息的数据转换;4220-电子数据存储 - 1747
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2021-10-29 商标注册申请 | 注册证发文
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2021-01-04 商标注册申请 | 申请收文
