【YAHE】商标详情
- YAHE
- 59074603
- 已注册
- 普通商标
- 2021-09-08
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0107 , 0115 0101-工业硅,
0102-酸,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用洗净剂,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0107-摄影用显影剂,
0115-工业用胶
0101-工业硅;0102-酸;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-工业用洗净剂;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0107-摄影用显影剂;0115-工业用胶 - 1783
- 2022-03-13
- 1795
- 2022-06-14
- 2022-06-14-2032-06-13
- 江苏亚禾投资管理有限公司
- 江苏省苏州市************
- 北京予仁知识产权代理有限公司
2022-07-07 商标注册申请 | 注册证发文
2022-03-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-01-06 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-10-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-09-08 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2021-09-08
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0107 , 0115 0101-工业硅,
0102-酸,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0104-工业用洗净剂,
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0107-摄影用显影剂,
0115-工业用胶
0101-工业硅;0102-酸;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0104-工业用洗净剂;0106-非医用、非兽医用化学试剂;0107-摄影用显影剂;0115-工业用胶 - 1783
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- 2022-06-14
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2022-03-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-01-06 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-10-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-09-08 商标注册申请 | 申请收文
