
【SUNERA】商标详情

- SUNERA
- 44457459
- 已注册
- 普通商标
- 2020-03-09
0102 , 0104 , 0106 0102-杂环化合物,
0102-氮化合物,
0102-苯衍生物,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用)
0102-杂环化合物;0102-氮化合物;0102-苯衍生物;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-工业用抗静电制剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用) - 1714
- 2020-10-06
- 1726
- 2021-01-07
- 2021-01-07-2031-01-06
- 江苏三月科技股份有限公司
- 江苏省无锡市************
- 无锡华源专利商标事务所(普通合伙)
2021-04-03 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2021-03-19 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-03-18 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-02-19 商标注册申请 | 注册证发文
2020-04-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-03-09 商标注册申请 | 申请收文
- SUNERA
- 44457459
- 已注册
- 普通商标
- 2020-03-09
0102 , 0104 , 0106 0102-杂环化合物,
0102-氮化合物,
0102-苯衍生物,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用)
0102-杂环化合物;0102-氮化合物;0102-苯衍生物;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-工业用抗静电制剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用) - 1714
- 2020-10-06
- 1726
- 2021-01-07
- 2021-01-07-2031-01-06
- 江苏三月科技股份有限公司
- 江苏省无锡市************
- 无锡华源专利商标事务所(普通合伙)
2021-04-03 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2021-03-19 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-03-18 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-02-19 商标注册申请 | 注册证发文
2020-04-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-03-09 商标注册申请 | 申请收文
