【NMD-W】商标详情
- NMD-W
- 82662863
- 已注册
- 普通商标
- 2024-12-20
0102 , 0104 , 0106 , 0107 0102-碱（化学制剂）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用显影剂,
0107-晒图专用显影液,
0107-照片显影用化学合成物
0102-碱（化学制剂）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用显影剂;0107-晒图专用显影液;0107-照片显影用化学合成物 - 1928
- 2025-03-20
- 1940
- 2025-06-21
- 2025-06-21-2035-06-20
- 东京应化工业株式会社
- 神奈川川崎市************
- 北京品源专利代理有限公司
2025-07-15 商标注册申请 | 注册证发文
2025-02-07 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-01-22 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-12-20 商标注册申请 | 申请收文
- NMD-W
- 82662863
- 已注册
- 普通商标
- 2024-12-20
0102 , 0104 , 0106 , 0107 0102-碱（化学制剂）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用显影剂,
0107-晒图专用显影液,
0107-照片显影用化学合成物
0102-碱（化学制剂）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0106-科学用化学制剂（非医 用、非兽医用）;0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用显影剂;0107-晒图专用显影液;0107-照片显影用化学合成物 - 1928
- 2025-03-20
- 1940
- 2025-06-21
- 2025-06-21-2035-06-20
- 东京应化工业株式会社
- 神奈川川崎市************
- 北京品源专利代理有限公司
2025-07-15 商标注册申请 | 注册证发文
2025-02-07 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-01-22 商标注 册申请 | 补正通知发文
2024-12-20 商标注册申请 | 申请收文
