【EFLOW】商标详情
- EFLOW
- G1057982
- 已注册
- 普通商标
- 2010-12-22
0729 , 0744 0729-化学处理机械及设备,
0744-用于生产半导体和液晶显示器的超纯净水使用的抗静电设备
0729-化学处理机械及设备;0744-用于生产半导体和液晶显示器的超纯净水使用的抗静电设备 - 2020-05-14-2030-05-14
- DIC CORPORATION
- 东京都东京************
- 国际局
2020-06-15 国际续展 | 申请核准审核
2020-05-31 国际续展 | 申请收文
2011-07-07 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2011-07-07 领土延伸 | 审查
2010-12-22 领土延伸 | 申请收文
- EFLOW
- G1057982
- 已注册
- 普通商标
- 2010-12-22
0729 , 0744 0729-化学处理机械及设备,
0744-用于生产半导体和液晶显示器的超纯净水使用的抗静电设备
0729-化学处理机械及设备;0744-用于生产半导体和液晶显示器的超纯净水使用的抗静电设备 - 2020-05-14-2030-05-14
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- 东京都东京************
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2020-06-15 国际续展 | 申请核准审核
2020-05-31 国际续展 | 申请收文
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2011-07-07 领土延伸 | 审查
2010-12-22 领土延伸 | 申请收文
