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【XINHUI】商标详情

商标名称
XINHUI
注册号
69255538
当前状态
已注册
商标类型
普通商标
类别
第01类
申请日期
2023-01-16
类似群
0101 , 0102 , 0104 , 0105 , 0106
商品/服务列表
0101-半导体用硅,
0102-硅胶,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0105-增润剂,
0106-分析化学用缓冲溶液
0101-半导体用硅;0102-硅胶;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0105-增润剂;0106-分析化学用缓冲溶液
初审公告期号
1848
初审公告日期
2023-07-20
注册公告期号
1860
注册公告日期
2023-10-21
专用权期限
2023-10-21-2033-10-20
申请人
浙江芯晖装备技术有限公司
申请人地址
浙江省嘉兴市************
代理人名称
北京集佳知识产权代理有限公司
商标流程
2023-11-14 商标注册申请 | 注册证发文
2023-07-08 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-05-13 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-02-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-02-04 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2023-01-16 商标注册申请 | 申请收文
商标公告
商标注册公告（一） 2023-10-20 第1860期查看公告
商标初步审定公告 2023-07-20 第1848期查看公告

商标名称
XINHUI
注册号
69255538
当前状态
已注册
商标类型
普通商标
类别
第01类
申请日期
2023-01-16
类似群
0101 , 0102 , 0104 , 0105 , 0106
商品/服务列表
0101-半导体用硅,
0102-硅胶,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0105-增润剂,
0106-分析化学用缓冲溶液
0101-半导体用硅;0102-硅胶;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0105-增润剂;0106-分析化学用缓冲溶液
初审公告期号
1848
初审公告日期
2023-07-20
注册公告期号
1860
注册公告日期
2023-10-21
专用权期限
2023-10-21-2033-10-20
申请人
浙江芯晖装备技术有限公司
申请人地址
浙江省嘉兴市************
代理人名称
北京集佳知识产权代理有限公司
商标流程
2023-11-14 商标注册申请 | 注册证发文
2023-07-08 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-05-13 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-02-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-02-04 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2023-01-16 商标注册申请 | 申请收文
商标公告
商标注册公告（一） 2023-10-20 第1860期查看公告
商标初步审定公告 2023-07-20 第1848期查看公告

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