【EATC】商标详情
- EATC
- 5653187
- 已注册
- 普通商标
- 2006-10-11
4209 , 4214 4209-光罩设计,
4209-半导体晶片之设计,
4209-提供半导体晶圆处理设计服务,
4209-提供有关半导体集成电路之设计、开发或技术咨询等业务,
4209-有关半导体晶片处理设备、集成电路设计元件及生产技术之资料库程式设计开发技术研究及系统分析服务,
4209-集成电路之设计,
4214-光罩及集成电路之测试服务,
4214-光罩设计,
4214-半导体晶片之测试服务,
4214-半导体晶片之设计,
4214-提供半导体晶圆处理设计服务,
4214-提供有关半导体集成电路之设计、开发或技术咨询等业务,
4214-有关半导体晶片处理设备、集成电路设计元件及生产技术之资料库程式设计开发技术研究及系统分析服务,
4214-集成电路之设计
4209-光罩设计;4209-半导体晶片之设计;4209-提供半导体晶圆处理设计服务;4209-提供有关半导体集成电路之设计、开发或技术咨询等业务;4209-有关半导体晶片处理设备、集成电路设计元件及生产技术之资料库程式设计开发技术研究及系统分析服务;4209-集成电路之设计;4214-光罩及集成电路之测试服务;4214-光罩设计;4214-半导体晶片之测试服务;4214-半导体晶片之设计;4214-提供半导体晶圆处理设计服务;4214-提供有关半导体集成电路之设计、开发或技术咨询等业务;4214-有关半导体晶片处理设备、集成电路设计元件及生产技术之资料库程式设计开发技术研究及系统分析服务;4214-集成电路之设计 - 1248
- 2011-01-20
- 1260
- 2011-04-21
- 2021-04-21-2031-04-20
- 福懋科技股份有限公司
- 台湾省************
- 北京律盟知识产权代理有限责任公司
2020-12-22 商标续展 | 核准通知打印发送
2020-11-28 商标续展 | 申请收文
2020-11-27 商标续展 | 申请收文
2011-05-11 商标注册申请 | 打印注册证
2009-11-09 驳回复审 | 打印受理通知
2009-09-22 驳回复审 | 申请收文
2009-09-07 商标注册申请 | 打印驳回通知
2007-04-03 商标注册申请 | 打印受理通知
2006-10-11 商标注册申请 | 申请收文
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- 5653187
- 已注册
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- 2006-10-11
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4209-半导体晶片之设计,
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- 2011-01-20
- 1260
- 2011-04-21
- 2021-04-21-2031-04-20
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