【博纳微】商标详情
- 博纳微
- 87436404
- 已初审
- 普通商标
- 2025-09-04
0102 , 0104 , 0115 0102-氢氧化钾,
0102-硅胶,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-电镀液,
0104-耐酸化学物质,
0115-固化剂,
0115-导电胶黏剂,
0115-工业用黏合剂
0102-氢氧化钾;0102-硅胶;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-电镀液;0104-耐酸化学物质;0115-固化剂;0115-导电胶黏剂;0115-工业用黏合剂 - 苏州博纳微电子科技有限公司
- 江苏省苏州市************
- 北京标信知识产权代理有限公司
2025-09-30 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-09-19 商标注册申请 | 申请收文
2025-09-04 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-12-06 第1962期 查看公告
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0102-硅胶,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-电镀液,
0104-耐酸化学物质,
0115-固化剂,
0115-导电胶黏剂,
0115-工业用黏合剂
0102-氢氧化钾;0102-硅胶;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-电镀液;0104-耐酸化学物质;0115-固化剂;0115-导电胶黏剂;0115-工业用黏合剂 - 苏州博纳微电子科技有限公司
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