【EUV RMQC】商标详情
- EUV RMQC
- G1310219
- 已注册
- 普通商标
- 2016-09-22
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0115 0101-工业用化学品,
0101-生产半导体用的化学品,
0102-工业用化学品,
0102-生产半导体用的化学品,
0103-工业用化学品,
0103-生产半导体用的化学品,
0104-工业用化学品,
0104-生产半导体用的化学 品,
0115-光刻胶,
0115-极紫外光刻用光刻胶
0101-工业用化学品;0101-生产半导体用的化学品;0102-工业用化学品;0102-生产半导体用的化学品;0103-工业用化学品;0103-生产半导体用的化学品;0104-工业用化学品;0104-生产半导体用的化学品;0115-光刻胶;0115-极紫外光刻用光刻胶 - 2016-04-26-2026-04-26
- JSR CORPORATION
- 东京都东京************
- 国际局
2018-07-11 国际更正 | 申请收文
2017-10-26 领土延伸 | 审查
2016-09-22 领土延伸 | 申请收文
- EUV RMQC
- G1310219
- 已注册
- 普通商标
- 2016-09-22
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0115 0101-工业用化学品,
0101-生产半导体用的化学品,
0102-工业用化学品,
0102-生产半导体用的化学品,
0103-工业用化学品,
0103-生产半导体用的化学品,
0104-工业用化学品,
0104-生产半导体用的化学品,
0115-光刻胶,
0115-极紫外光刻用光刻胶
0101-工业用化学品;0101-生产半导体用的化学品;0102-工业用化学品;0102-生产半导体用的化学品;0103-工业用化学品;0103-生产半导体用的化学品;0104-工业用化学品;0104-生产半导体用的化学品;0115-光刻胶;0115-极紫外光刻用光刻胶 - 2016-04-26-2026-04-26
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