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【EUV RMQC】商标详情

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EUV RMQC
  • EUV RMQC
  • G1310219
  • 已注册
  • 普通商标
  • 第01类
  • 2016-09-22
  • 0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0115

  • 0101-工业用化学品,

    0101-生产半导体用的化学品,

    0102-工业用化学品,

    0102-生产半导体用的化学品,

    0103-工业用化学品,

    0103-生产半导体用的化学品,

    0104-工业用化学品,

    0104-生产半导体用的化学品,

    0115-光刻胶,

    0115-极紫外光刻用光刻胶

    0101-工业用化学品;0101-生产半导体用的化学品;0102-工业用化学品;0102-生产半导体用的化学品;0103-工业用化学品;0103-生产半导体用的化学品;0104-工业用化学品;0104-生产半导体用的化学品;0115-光刻胶;0115-极紫外光刻用光刻胶
  • 2016-04-26-2026-04-26
  • JSR CORPORATION
  • 东京都东京************
  • 国际局

  • 2018-07-11 国际更正 | 申请收文

    2017-10-26 领土延伸 | 审查

    2016-09-22 领土延伸 | 申请收文

  • EUV RMQC
  • G1310219
  • 已注册
  • 普通商标
  • 第01类
  • 2016-09-22
  • 0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0115

  • 0101-工业用化学品,

    0101-生产半导体用的化学品,

    0102-工业用化学品,

    0102-生产半导体用的化学品,

    0103-工业用化学品,

    0103-生产半导体用的化学品,

    0104-工业用化学品,

    0104-生产半导体用的化学品,

    0115-光刻胶,

    0115-极紫外光刻用光刻胶

    0101-工业用化学品;0101-生产半导体用的化学品;0102-工业用化学品;0102-生产半导体用的化学品;0103-工业用化学品;0103-生产半导体用的化学品;0104-工业用化学品;0104-生产半导体用的化学品;0115-光刻胶;0115-极紫外光刻用光刻胶
  • 2016-04-26-2026-04-26
  • JSR CORPORATION
  • 东京都东京************
  • 国际局

  • 2018-07-11 国际更正 | 申请收文

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