【弘塑集团 HONSU GROUP】商标详情
- 弘塑集团 HONSU GROUP
- 29342986
- 已驳回
- 普通商标
- 2018-02-26
0104 0104-制毛玻璃用化学品,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-除水垢剂
0104-制毛玻璃用化学品;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-工业用化学品;0104-工业用废水处理化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-除水垢剂 - 弘塑科技股份有限公司
- 台湾省************
- 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)
2018-12-18 商标注册申请 | 等待驳回复审
2018-10-22 商标注册申请 | 驳回通知发文
2018-04-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2018-02-26 商标注册申请 | 申请收文
- 弘塑集团 HONSU GROUP
- 29342986
- 已驳回
- 普通商标
- 2018-02-26
0104 0104-制毛玻璃用化学品,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-除水垢剂
0104-制毛玻璃用化学品;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-工业用化学品;0104-工业用废水处理化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-除水垢剂 - 弘塑科技股份有限公司
- 台湾省************
- 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)
2018-12-18 商标注册申请 | 等待驳回复审
2018-10-22 商标注册申请 | 驳回通知发文
2018-04-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2018-02-26 商标注册申请 | 申请收文
