
【HISCL】商标详情

- HISCL
- 5416294
- 已注册
- 普通商标
- 2006-06-13
0302 0302-仪器设备清洁制剂,
0302-仪器设备用去污剂,
0302-仪器设备用清洁溶剂,
0302-去污剂,
0302-清洁制剂,
0302-清洁用溶剂
0302-仪器设备清洁制剂;0302-仪器设备用去污剂;0302-仪器设备用清洁溶剂;0302-去污剂;0302-清洁制剂;0302-清洁用溶剂 - 1169
- 2009-05-27
- 1181
- 2009-08-28
- 2019-08-28-2029-08-27
- 希森美康株式会社
- 兵库神户************
- 北京安伦知识产权代理有限公司
2019-07-18 商标续展 | 核准通知打印发送
2019-06-05 商标续展 | 申请收文
2009-09-15 商标注册申请 | 打印注册证
2006-10-31 商标注册申请 | 打印受理通知
2006-06-13 商标注册申请 | 申请收文
- HISCL
- 5416294
- 已注册
- 普通商标
- 2006-06-13
0302 0302-仪器设备清洁制剂,
0302-仪器设备用去污剂,
0302-仪器设备用清洁溶剂,
0302-去污剂,
0302-清洁制剂,
0302-清洁用溶剂
0302-仪器设备清洁制剂;0302-仪器设备用去污剂;0302-仪器设备用清洁溶剂;0302-去污剂;0302-清洁制剂;0302-清洁用溶剂 - 1169
- 2009-05-27
- 1181
- 2009-08-28
- 2019-08-28-2029-08-27
- 希森美康株式会社
- 兵库神户************
- 北京安伦知识产权代理有限公司
2019-07-18 商标续展 | 核准通知打印发送
2019-06-05 商标续展 | 申请收文
2009-09-15 商标注册申请 | 打印注册证
2006-10-31 商标注册申请 | 打印受理通知
2006-06-13 商标注册申请 | 申请收文
