【LK-99】商标详情
- LK-99
- G1778175
- 待审中
- 普通商标
- 2024-02-29
0104 0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料
0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料 - Quantum Energy Research Centre (Q-centre)
- 首尔特别市首尔************
- 国际局
2025-06-04 驳回复审 | 实审裁文发文
2024-11-13 国际变更 | 申请核准审核
2024-11-04 国际变更 | 申请收文
2024-07-21 驳回复审 | 申请收文
2024-07-20 驳回复审 | 申请收文
2024-07-11 领土延伸 | 驳回电子发文
2024-02-29 领土延伸 | 申请收文
- LK-99
- G1778175
- 待审中
- 普通商标
- 2024-02-29
0104 0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料
0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料 - Quantum Energy Research Centre (Q-centre)
- 首尔特别市首尔************
- 国际局
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2024-11-13 国际变更 | 申请核准审核
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2024-07-21 驳回复审 | 申请收文
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