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- 待审中
- 普通商标
- 2026-01-28
4209 , 4214 , 4216 , 4218 , 4220 , 4227 -为他人研究和开发新产品,
-主页和网站设计,
-平面美术设计,
-技术研究,
-服装设计,
-材料测试,
-电信技术领域的研究,
-虚拟现实软件的设计和开发,
-计算机软件设计,
-造型(工业品外观设计),
4209-为他人研究和开发新产品,
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4214-材料测试,
4216-造型(工业品外观设计),
4218-服装设计,
4220-主页和网站设计,
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4227-平面美术设计
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- 浙江省杭州市************
- 厦门叁玖叁科技有限公司
2026-02-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-01-28 商标注册申请 | 申请收文
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