【艾萨斯】商标详情
- 艾萨斯
- 74307160
- 已注册
- 普通商标
- 2023-09-26
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0107 , 0111 , 0115 0101-结晶硅,
0102-盐酸溶液,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-电刷镀溶液,
0104-电镀液,
0106-分析化学用缓冲溶液,
0107-摄影用显影剂,
0111-金属加工用淬火液,
0115-聚醋酸乙烯乳 液
0101-结晶硅;0102-盐酸溶液;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-电刷镀溶液;0104-电镀液;0106-分析化学用缓冲溶液;0107-摄影用显影剂;0111-金属加工用淬火液;0115-聚醋酸乙烯乳液 - 1868
- 2023-12-20
- 1880
- 2024-03-21
- 2024-03-21-2034-03-20
- 绵阳艾萨斯电子材料有限公司
- 四川省绵阳市************
- 四川中益川知识产权服务有限责任公司
2024-04-13 商标注册申请 | 注册证发文
2023-10-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-09-26 商标注册申请 | 申请收文
- 艾萨斯
- 74307160
- 已注册
- 普通商标
- 2023-09-26
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0107 , 0111 , 0115 0101-结晶硅,
0102-盐酸溶液,
0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-电刷镀溶液,
0104-电镀液,
0106-分析化学用缓冲溶液,
0107-摄影用显影剂,
0111-金属加工用淬火液,
0115-聚醋酸乙烯乳液
0101-结晶硅;0102-盐酸溶液;0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-电刷镀溶液;0104-电镀液;0106-分析化学用缓冲溶液;0107-摄影用显影剂;0111-金属加工用淬火液;0115-聚醋酸乙烯乳液 - 1868
- 2023-12-20
- 1880
- 2024-03-21
- 2024-03-21-2034-03-20
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- 四川省绵阳市************
- 四川中益川知识产权服务有限责任公司
2024-04-13 商标注册申请 | 注册证发文
2023-10-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-09-26 商标注册申请 | 申请收文
