【GPX】商标详情
- GPX
- 4266720
- 已注册
- 普通商标
- 2004-09-13
0104 0104-氧化制剂,
0104-研磨剂(与研磨剂配用的辅助液),
0104-金属化学机械抛光(CMP)工序用制剂
0104-氧化制剂;0104-研磨剂(与研磨剂配用的辅助液);0104-金属化学机械抛光(CMP)工序用制剂 - 1079
- 2007-07-14
- 1091
- 2007-10-14
- 2017-10-14-2027-10-13
- 株式会社力森诺科
- 东京都东京************
- 北京中咨爱普商标代理有限公司
2024-03-06 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2024-02-20 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2023-07-19 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2023-07-12 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-08-28 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2021-06-17 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-06-16 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2017-11-08 商标续展 | 核准通知打印发送
2017-09-15 商标续展 | 等待打印受理通知书
2017-08-15 商标续展 | 申请收文
2013-06-03 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印核准变更证明
2013-03-18 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 打印受理通知
2013-02-20 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2007-11-01 商标注册申请 | 打印注册证
2004-11-23 商标注册申请 | 打印受理通知
2004-09-13 商标注册申请 | 申请收文
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0104 0104-氧化制剂,
0104-研磨剂(与研磨剂配用的辅助液),
0104-金属化学机械抛光(CMP)工序用制剂
0104-氧化制剂;0104-研磨剂(与研磨剂配用的辅助液);0104-金属化学机械抛光(CMP)工序用制剂 - 1079
- 2007-07-14
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