【TOK】商标详情
- TOK
- 4511910
- 已注册
- 普通商标
- 2005-02-23
0104 , 0107 , 0108 0104-光敏抗蚀剂,
0104-光敏抗蚀剂用冲洗剂,
0104-光敏抗蚀剂用剥离剂,
0104-光敏抗蚀剂用抗反射膜,
0104-半导体以及显示器用SIO系覆膜形成用涂液,
0104-半导体用洗净剂,
0104-半导体高浓度扩散剂,
0104-干膜抗蚀剂,
0104-高纯度水溶性树脂溶液,
0107-光敏抗蚀剂用显影剂,
0108-凸版印刷用感光性树脂版,
0108-压箔(烫金字)印刷用感光性树脂版,
0108-激光导引制版用感光性树脂版,
0108-胶印用感光性树脂版
0104-光敏抗蚀剂;0104-光敏抗蚀剂用冲洗剂;0104-光敏抗蚀剂用剥离剂;0104-光敏抗蚀剂用抗反射膜;0104-半导体以及显示器用SIO系覆膜形成用涂液;0104-半导体用洗净剂;0104-半导体高浓度扩散剂;0104-干膜抗蚀剂;0104-高纯度水溶性树脂溶液;0107-光敏抗蚀剂用显影剂;0108-凸版印刷用感光性树脂版;0108-压箔(烫金字)印刷用感光性树脂版;0108-激光导引制版用感光性树脂版;0108-胶印用感光性树脂版 - 1107
- 2008-02-13
- 1119
- 2008-05-14
- 2018-05-14-2028-05-13
- 东京应化工业株式会社
- 神奈川川崎市************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2018-05-11 商标续展 | 核准通知打印发送
2018-04-29 商标续展 | 等待打印受理通知书
2018-03-24 商标续展 | 申请收文
2018-03-23 商标续展 | 申请收文
2008-06-04 商标注册申请 | 打印注册证
2005-04-26 商标注册申请 | 打印受理通知
2005-02-23 商标注册申请 | 申请收文
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- 2005-02-23
0104 , 0107 , 0108 0104-光敏抗蚀剂,
0104-光敏抗蚀剂用冲洗剂,
0104-光敏抗蚀剂用剥离剂,
0104-光敏抗蚀剂用抗反射膜,
0104-半导体以及显示器用SIO系覆膜形成用涂液,
0104-半导体用洗净剂,
0104-半导体 高浓度扩散剂,
0104-干膜抗蚀剂,
0104-高纯度水溶性树脂溶液,
0107-光敏抗蚀剂用显影剂,
0108-凸版印刷用感光性树脂版,
0108-压箔(烫金字)印刷用感光性树脂版,
0108-激光导引制版用感光性树脂版,
0108-胶印用感光性树脂版
0104-光敏抗蚀剂;0104-光敏抗蚀剂用冲洗剂;0104-光敏抗蚀剂用剥离剂;0104-光敏抗蚀剂用抗反射膜;0104-半导体以及显示器用SIO系覆膜形成用涂液;0104-半导体用洗净剂;0104-半导体高浓度扩散剂;0104-干膜抗蚀剂;0104-高纯度水溶性树脂溶液;0107-光敏抗蚀剂用显影剂;0108-凸版印刷用感光性树脂版;0108-压箔(烫金字)印刷用感光性树脂版;0108-激光导引制版用感光性树脂版;0108-胶印用感光性树脂版 - 1107
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- 东京应化工业株式会社
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