【欣瑞晟】商标详情
- 欣瑞晟
- 78817190
- 已注册
- 普通商标
- 2024-05-24
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业用天然石墨,
0102-碳化硅,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-工业用人造石墨;0101-工业用天然石墨;0102-碳化硅;0102-碳化硅（原材料）;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1899
- 2024-08-13
- 1911
- 2024-11-14
- 2024-11-14-2034-11-13
- 江苏汉印机电科技股份有限公司
- 江苏省盐城市************
- 上海市海华永泰律师事务所
2024-06-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-24 商标注册申请 | 申请收文
- 欣瑞晟
- 78817190
- 已注册
- 普通商标
- 2024-05-24
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业用天然石墨,
0102-碳化硅,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-工业用人造石墨;0101-工业用天然石墨;0102-碳化硅;0102-碳化硅（原材料）;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅 - 1899
- 2024-08-13
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- 2024-11-14
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- 江苏省盐城市************
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2024-06-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-05-24 商标注册申请 | 申请收文
