【希岸】商标详情
- 希岸
- 57594574
- 已注册
- 普通商标
- 2021-07-09
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-稀土金属,
0102-有机砷化合物,
0102-氧化铟,
0102-硝酸盐,
0102-硫酸盐,
0102-碳酸盐,
0102-稀土金属盐,
0102-草酸盐,
0102-醋酸盐,
0102-金属氯化物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-稀土金属;0102-有机砷化合物;0102-氧化铟;0102-硝酸盐;0102-硫酸盐;0102-碳酸盐;0102-稀土金属盐;0102-草酸盐;0102-醋酸盐;0102-金属氯化物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1766
- 2021-11-06
- 1778
- 2022-02-07
- 2022-02-07-2032-02-06
- 郑州迅捷半导体材料有限公司
- 河南省郑州市************
- 河南乐钉知识产权代理有限公司
2022-03-03 商标注册申请 | 注册证发文
2021-07-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-07-09 商标注册申请 | 申请收文
- 希岸
- 57594574
- 已注册
- 普通商标
- 2021-07-09
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-稀土金属,
0102-有机砷化合物,
0102-氧化铟,
0102-硝酸盐,
0102-硫酸盐,
0102-碳酸盐,
0102-稀土金属盐,
0102-草酸盐,
0102-醋酸盐,
0102-金属氯化物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-稀土金属;0102-有机砷化合物;0102-氧化铟;0102-硝酸盐;0102-硫酸盐;0102-碳酸盐;0102-稀土金属盐;0102-草酸盐;0102-醋酸盐;0102-金属氯化物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1766
- 2021-11-06
- 1778
- 2022-02-07
- 2022-02-07-2032-02-06
- 郑州迅捷半导体材料有限公司
- 河南省郑州市************
- 河南乐钉知识产权代理有限公司
2022-03-03 商标注册申请 | 注册证发文
2021-07-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-07-09 商标注册申请 | 申请收文
