【正天伟】商标详情
- 正天伟
- 80658387
- 已初审
- 普通商标
- 2024-08-30
0102 , 0104 -印制电路制造用化学氧化剂,
-印制电路板制造用蚀刻剂,
0102-表面活性剂,
0104-催化剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0104-腐蚀剂
-印制电路制造用化学氧化剂;-印制电路板制造用蚀刻剂;0102-表面活性剂;0104-催化剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0104-腐蚀剂 - 1913
- 2024-11-27
- 信丰正天伟电子科技有限公司
- 江西省赣州市************
- 广州添微知识产权服务有 限公司
2024-10-30 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-09-21 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-08-30 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2024-11-27 第1913期 查看公告
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- 2024-08-30
0102 , 0104 -印制电路制造用化学氧化剂,
-印制电路板制造用蚀刻剂,
0102-表面活性剂,
0104-催化剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0104-腐蚀剂
-印制电路制造用化学氧化剂;-印制电路板制造用蚀刻剂;0102-表面活性剂;0104-催化剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0104-腐蚀剂 - 1913
- 2024-11-27
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