【EZ-CURVE】商标详情
- EZ-CURVE
- G1492208
- 已注册
- 普通商标
- 2019-10-17
0910 0910-用于测量其上沉积有薄层或通过物理或化学方法进行真空处理的基质物的曲率的仪器,该基质物被认为由金属或半导体元素的晶片组成, 这些仪器用于实时监测薄层的增长情况
0910-用于测量其上沉积有薄层或通过物理或化学方法进行真空处理的基质物的曲率的仪器,该基质物被认为由金属或半导体元素的晶片组成, 这些仪器用于实时监测薄层的增长情况 - 2019-08-13-2029-08-13
- RIBER
- 瓦勒德瓦兹省伯宗************
- 国际局
2019-12-18 领土延伸 | 审查
2019-10-17 领土延伸 | 申请收文
- EZ-CURVE
- G1492208
- 已注册
- 普通商标
- 2019-10-17
0910 0910-用于测量其上沉积有薄层或通过物理或化学方法进行真空处理的基质物的曲率的仪器,该基质物被认为由金属或半导体元素的晶片组成, 这些仪器用于实时监测薄层的增长情况
0910-用于测量其上沉积有薄层或通过物理或化学方法进行真空处理的基质物的曲率的仪器,该基质物被认为由金属或半导体元素的晶片组成, 这些仪器用于实时监测薄层的增长情况 - 2019-08-13-2029-08-13
- RIBER
- 瓦勒德瓦兹省伯宗************
- 国际局
2019-12-18 领土延伸 | 审查
2019-10-17 领土延伸 | 申请收文