【CLUSTERLINE】商标详情
- CLUSTERLINE
- G668216
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-11
0729 , 0744 0729-用于通过阴极溅射、蒸发、化学气相沉积和快速热退火方法制造半导体的机械模块,
0744-用于通过阴极溅射、蒸发、化学气相沉积和快速热退火方法制造半导体的机械模块
0729-用于通过阴极溅射、蒸发、化学气相沉积和快速热退火方法制造半导体的机械模块;0744-用于通过阴极溅射、蒸发、化学气相沉积和快速热退火方法制造半导体的机械模块 - 2023-04-11-2026-07-25
- EVATEC AG
- 圣加仑州特吕巴赫************
- 国际局
2023-09-15 领土延伸 | 审查
2023-05-11 商标注册申请 | 申请收文
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- 2023-05-11
0729 , 0744 0729-用于通过阴极溅射、蒸发、化学气相沉积和快速热退火方法制造半导体的机械模块,
0744-用于通过阴极溅射、蒸发、化学气相沉积和快速热退火方法制造半导体的机械模块
0729-用于通过阴极溅射、蒸发、化学气相沉积和快速热退火方法制造半导体的机械模块;0744-用于通过阴极溅射、蒸发、化学气相沉积和快速热退火方法制造半导体的机械模块 - 2023-04-11-2026-07-25
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