
【SOITEC】商标详情

- SOITEC
- G1338104H
- 已注册
- 普通商标
- 2018-05-31
4001 , 4002 , 4015 4001-半导体晶片抛光,将材料层、半导体或元件转移到各种介质上,
4001-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合,
4001-硅片和半导体抛光,将硅层、半导体或元件转移到各种介质上,
4002-半导体晶片抛光,将材料层、半导体或元件转移到各种介质上,
4002-有关半导体片和半导体的处理,
4002-材料处理,即机 械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合,
4002-用于微电子和光电子、光电池、微型机械、微系统和射频(RF)元件及各种衍生产品的基板处理,
4002-硅片和半导体处理,
4002-硅片和半导体抛光,将硅层、半导体或元件转移到各种介质上,
4015-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合
4001-半导体晶片抛光,将材料层、半导体或元件转移到各种介质上;4001-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合;4001-硅片和半导体抛光,将硅层、半导体或元件转移到各种介质上;4002-半导体晶片抛光,将材料层、半导体或元件转移到各种介质上;4002-有关半导体片和半导体的处理;4002-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合;4002-用于微电子和光电子、光电池、微型机械、微系统和射频(RF)元件及各种衍生产品的基板处理;4002-硅片和半导体处理;4002-硅片和半导体抛光,将硅层、半导体或元件转移到各种介质上;4015-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合 - 2018-05-09-2026-11-30
- SOITEC
- 伊泽尔省贝尔南************
- 国际局
2018-11-14 领土延伸 | 审查
2018-05-31 领土延伸 | 申请收文
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4001-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合,
4001-硅片和半导体抛光,将硅层、半导体或元件转移到各种介质上,
4002-半导体晶片抛光,将材料层、半导体或元件转移到各种介质上,
4002-有关半导体片和半导体的处理,
4002-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合,
4002-用于微电子和光电子、光电池、微型机械、微系统和射频(RF)元件及各种衍生产品的基板处理,
4002-硅片和半导体处理,
4002-硅片和半导体抛光,将硅层、半导体或元件转移到各种介质上,
4015-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合
4001-半导体晶片抛光,将材料层、半导体或元件转移到各种介质上;4001-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合;4001-硅片和半导体抛光,将硅层、半导体或元件转移到各种介质上;4002-半导体晶片抛光,将材料层、半导体或元件转移到各种介质上;4002-有关半导体片和半导体的处理;4002-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合;4002-用于微电子和光电子、光电池、微型机械、微系统和射频(RF)元件及各种衍生产品的基板处理;4002-硅片和半导体处理;4002-硅片和半导体抛光,将硅层、半导体或元件转移到各种介质上;4015-材料处理,即机械、化学和物理处理及材料表面加工、胶合 - 2018-05-09-2026-11-30
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